产品应用
该设备广泛适用于金属、半导体、矿物、电池、生物、高分子等领域，支持高/低真空双模式，不导电样品无需镀膜即可直接观察，可最大程度揭示样品的微观形貌和结构信息。产品优势
大尺寸样品分析：可以分析常规SEM无法分析的大尺寸样品。例如：晶圆，磁盘
无损样品分析：无需切割即可分析样品。例如PCB，半导体图案分析
较重样品分析：能够分析重达2kg的样品。例如岩石，铁矿石
快速样品分析：同时进行多个样品的分析，大大提高工作效率，节约成本
超大束流分析：支持高/低真空双模式超大束流300 nA，提高工作效率
产品参数
电子枪：肖特基场发射电子枪
加速电压：0.5-30 kV
分辨率：0.8 nm (30 kV)；1.6 nm (1 kV)
探针束流：3pA - 300 nA
放大倍率：×5 - ×800,000
低真空压力：3 - 200 Pa
样品台行程：X:130 / Y:130 / Z:80 mm；倾斜:-30°~90°；旋转:360°
最大样品尺寸：Φ250 mm × 90 mm(H)
最大样品重量：2kg
摄像头影像：光学导航+样品室内监控双摄像头
自动功能 ：自动电子枪对中、自动光阑对中、自动聚焦、自动像散消除、自动亮度对比度
探测器：SE探测器、BSE探测器、STEM探测器(选配)、低真空二次电子探测器（LVD）
分析附件：集成EDS(标配)、EBSD/WDS/CL(选配)
